第259章 突破14nm光刻机工艺（第2 / 4页）

陈序被夸的有些不好意思了，呵呵笑着没说话。

一个小时后，下来考察调研的领导及随行人员乘坐考斯特离开了，陈序回到办公室直接瘫坐在了沙发里，说：“感觉比做十天实验还累。”

跟进来的中星微电子总负责人张海春，笑呵呵道：“一般搞学术的人，都不怎么喜欢这种场合，等以后习惯了应该会好一些。”

张海春是光刻机领域的大牛级人物，曾先后在ASML及台积电工作，甚至还被SMEE聘请为高级总工程师，不过后来因为某些原因离职了。

他在国际学术圈的地位比周东林还牛掰。

陪同着一起超前的陈序，谦虚道：“总L过奖了，我们还有很多不足的地步。”

首长亲切的拍拍他肩膀，然后顺着参观台上设立的透明甬道朝前走去，边走边看，同时问道：“那目前主要还有哪些困难呢？”

“主要就是机械精度方面有待提高…它里面有两个同步运动的工件台，一个载底片，一个载胶片，两者需要始终同步，误差要在2nm以下，而两个工作台由静到动，加速度跟导弹发射差不多……”

孙立群抢着介绍了一番后，首长转头问右侧的陈序，“小陈你估计多长时间能研制成功？”

陈序组织了一下语言说：“如果一切顺利的话，大概今年底吧！”

“呵呵，也许吧。”陈序说着坐起来点了一根烟，“超精密工件台的实验怎么样了？”

“不怎么理想，目前实验最多只能到5nm，距离要求的2nm还有一定的差距，德国跟日苯那边……”

说完陈序又跟到：“因为是第一次做没经验，再加上一些关键性的零部件被卡了脖子，只能通过自主研发。不过等到7nm时应该会很轻松。”

首长闻言有些讶异道：“7nm？”

孙立群再次抢着介绍道：“总L您没听错，正是7nm。

我们和星海在研发14nm以及10nm的同时也在布局7nm，而且我们的7nm技术跟国外的稍稍有些不同……”

首长听完后点点头，再次伸手拍拍陈序的手臂，“嗯，你是好样的！”